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首页> 常温超导体可以用来制作什么> 第35章 必须搞光刻机

第35章 必须搞光刻机(2/3)

悲观。

     “米国制裁华美,这下我的mat60又等不到了。

    ” “必须支持国产,但是我的显卡怎么办?我要玩三A。

    ” “楼上的,打打王者农药算了,打什么3A。

    ” “没办法,国产芯就是拉,再等几年吧!” 看到网友的留言,林深忍无可忍,猛地拍案而起。

     “必须搞光刻机。

    ” 吓得图书馆的同学所有人都用异样的目光都看向他,议论纷纷。

     “这人失了智吧?搞还光刻机?” “估计是考研学疯了,前几天刚疯一个。

    ” “抬走,下一位。

    ” 看着各位同学像看神经病一样的目光,林深立马尴尬坐了回去。

     “卧槽,忘记是在图书馆了。

    ” 还好自己脸皮厚。

     这些天半导体领域的知识已经积累得差不多了,是时候大干一场了。

     “开始进行模型训练。

    ” “半导体1.0开始训练,预计完成时间,12小时。

    ” 很好。

     回去睡个觉,醒来差不多就能训练完成。

     林深拿起手机直奔宿舍。

     翌日,林深从睡梦中醒来。

     半导体1.0已经完成了全部运算。

     他心中狂喜,马上进行技术理论推导。

     “光源采用自由电子激光、多层膜反射镜改进工艺、高灵敏度光刻胶、更加先进的多重曝光技术……” 采用上述技术制作出来的光刻机,生产出来的芯片,最小制程可以达到0.5nm。

     林深心中狂喜。

     强,太强了。

     可以,硅基芯片上限太低,制程再往下走就到极限了。

     以后如果要在芯片领域再突破,可能得考虑量子计算机了。

     不过没事,当下凑合用用可以了。

     林深心态很好。

     一步一步来嘛,搞科研不是一蹴而就的。

     虽然他已经和开挂没什么区别,但是想要实现突破,
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